CMP是指半導體產業中晶圓生產的研磨工藝,它使用研磨工具與研磨拋光液將晶圓變得光滑，研磨拋光液的漿料顆粒從30-200μm廣泛分布，按標準應該把漿料顆粒控制在0.5μm以內。如果不過濾掉大于0.5μm的顆粒將導致晶圓表面被刮傷，于是漿料過濾便成為該工藝的關鍵點。CMP過濾濾芯幫助客戶在CMP過濾中去除掉影響產品的顆粒，放行有效顆粒。
光刻工藝是微圖形轉移工藝，隨著半導體加工的線寬越來越小，光刻工藝對極小污染物的控制苛刻到極致，不光對顆粒嚴格控制，嚴控過濾產品的金屬離子析出，這對濾芯生產制造提出了特別高的要求。過濾給半導體客戶提供半導體級別的全氟濾芯，超低的金屬析出溶出確保了產品的潔凈。
廠務系統過濾
半導體制造過程中，廠務系統為FAB提供生產制造用潔凈的工藝氣體，超純水，超凈電子化學品。大批量，長時間不間斷的供應，對過濾的穩定性提出了很高的要求。恒水過濾為廠務系統過濾提供專有的過濾產品。大流量濾芯的產品，全氟耐腐蝕產品，以及高精度高效率過濾產品，為廠務系統的安全供應提供了服務。
超凈電子化學品作為半導體生產制造的關鍵材料，在半導體的生產過程中起著關鍵的作用，各種不同特性的電子化學品對過濾產品的要求各有不同，對過濾產品的潔凈度，低析出有著嚴苛的要求。恒水過濾采用行業先進的設備，對過濾產品進行嚴格的潔凈度的管控，低析出，低金屬離子產品，為半導體行業的穩定、安全、可靠生產提供了幫助。
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